利用拉曼光譜測(cè)量二硫化鉬薄片層數(shù)的三種方法
2024年12月31日,國(guó)家市場(chǎng)監(jiān)督管理總局(國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)化管理委員會(huì))發(fā)布2024年第32號(hào)中華人民共....

NFC技術(shù)在手機(jī)中的應(yīng)用
在數(shù)字支付技術(shù)迅猛發(fā)展的今天,支付寶推出的“碰一下”支付功能以其便捷性和高效性迅速吸引了廣泛關(guān)注。這....

晶圓拋光在芯片制造中的作用
晶圓,作為芯片制造的基礎(chǔ)載體,其表面平整度對(duì)于后續(xù)芯片制造工藝的成功與否起著決定性作用。
互補(bǔ)場(chǎng)效應(yīng)晶體管的結(jié)構(gòu)和作用
隨著半導(dǎo)體技術(shù)不斷逼近物理極限,傳統(tǒng)的平面晶體管(Planar FET)、鰭式場(chǎng)效應(yīng)晶體管(FinF....

ALD和ALE核心工藝技術(shù)對(duì)比
ALD 和 ALE 是微納制造領(lǐng)域的核心工藝技術(shù),它們分別從沉積和刻蝕兩個(gè)維度解決了傳統(tǒng)工藝在精度、....

一文解析現(xiàn)代場(chǎng)效應(yīng)晶體管(FET)的發(fā)明先驅(qū)
朱利葉斯·埃德加·利利恩菲爾德在1925年申請(qǐng)的專利為場(chǎng)效應(yīng)晶體管奠定了理論基礎(chǔ)。 雖然第一個(gè)工作的....

干法刻蝕的概念、碳硅反應(yīng)離子刻蝕以及ICP的應(yīng)用
碳化硅(SiC)作為一種高性能材料,在大功率器件、高溫器件和發(fā)光二極管等領(lǐng)域有著廣泛的應(yīng)用。其中,基....

數(shù)據(jù)I/O模塊的概念、特點(diǎn)以及作用
? 本文簡(jiǎn)單介紹了數(shù)據(jù)I/O模塊的概念、特點(diǎn)以及作用。 一、數(shù)據(jù) I/O 模塊是什么 1. 承接內(nèi)外....
如果光速逃跑,能甩開(kāi)射來(lái)的激光嗎
本文從愛(ài)因斯坦追光實(shí)驗(yàn)入手,用通俗易懂的語(yǔ)言介紹了多普勒頻移現(xiàn)象。 ? 愛(ài)因斯坦是20世紀(jì)最偉大的天....

離子注入工藝中的重要參數(shù)和監(jiān)控手段
本文簡(jiǎn)單介紹了離子注入工藝中的重要參數(shù)和離子注入工藝的監(jiān)控手段。 在硅晶圓制造過(guò)程中,離子的分布狀況....

鏡頭景深的概念和計(jì)算公式
景深是圖像中看起來(lái)可以接受的清晰度的最近和最遠(yuǎn)對(duì)象之間的距離。拍攝圖像時(shí),將相機(jī)聚焦在任意距離的對(duì)象....

封裝工藝簡(jiǎn)介及元器件級(jí)封裝設(shè)備有哪些
? 本文介紹了封裝工藝簡(jiǎn)介及元器件級(jí)封裝設(shè)備有哪些。 概述 電子產(chǎn)品制造流程涵蓋半導(dǎo)體元件制造及整機(jī)....

神經(jīng)網(wǎng)絡(luò)理論研究的物理學(xué)思想介紹
本文主要介紹神經(jīng)網(wǎng)絡(luò)理論研究的物理學(xué)思想 神經(jīng)網(wǎng)絡(luò)在當(dāng)今人工智能研究和應(yīng)用中發(fā)揮著不可替代的作用。它....

微型晶體管高分辨率X射線成像
本文主要介紹微型晶體管高分辨率X射線成像 ? 一種經(jīng)過(guò)升級(jí)的X射線可對(duì)芯片內(nèi)部進(jìn)行3D成像,展現(xiàn)其設(shè)....
