日前,日本半導體晶圓企業信越化學工業與從事ATM及通信設備的OKI公司聯合開發出了低成本制造氮化鎵(GaN)的新技術。
據悉,這項技術可以使得氮化鎵材料的制造成本降低90%以上,如果能夠量產,將大幅降低快充充電器、電動汽車馬達電控等裝置的成本,有利于氮化鎵技術普及。
據了解,此次信越化學工業與OKI開發的新技術,可以在特有的基板上噴射鎵系氣體,使晶體生長。信越化學工業的增厚晶體技術與OKI的接合技術相結合,可以從基板上只揭下晶體,晶體放在其他基板上作為功率半導體的晶圓使用。
信越化學工業表示,在GaN基板上使GaN晶體生長的制法不僅制造耗費時間,成品率還很差,成本高。新制法可以高效制造晶體,可以降低9成成本。與在矽基板上使GaN晶體生長的制法相比,不需要基板與晶體之間的絕緣層。加上晶體的厚膜化,可以通20倍大的電流。
信越化學工業還透露,這一技術可以制造6英寸晶圓,希望在2025年增大到8英寸,今后還考慮向半導體廠商銷售技術等業務模式。
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原文標題:【國際資訊】制造成本可降低90%,日本信越開發新技術
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